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フォトリソグラフィ実験用光源装置 UI-501C

資料番号 113611610020
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1966
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


IC焼付け装置「ユニマスク101」

資料番号 113611610021
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1968
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


LSI焼付け用ディープUVランプ

資料番号 113611610022
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1976
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


超LSI焼付け用大出力ディープUVランプ

資料番号 113611610023
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1977
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


シリコンエピタキシャル結晶膜成長用ハロゲンヒータランプ「HHシリーズ」

資料番号 113611610024
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1982
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


光洗浄装置「フォトレックス」

資料番号 113611610025
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1983
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


紫外線レジスト硬化装置「ユニハード」 H-3

資料番号 113611610026
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1985
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


ウエハー周辺露光装置

資料番号 113611610027
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1989
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


半導体露光用SUVランプ

資料番号 113611610028
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1991
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/10/31


ケミカルドライエッチング(CDE)装置(Chemical Dry Etching System) CDE-Ⅳ

資料番号 113611610029
所在等 芝浦メカトロニクス株式会社
所在地 神奈川県横浜市
製作(製造)年 1977
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
調査票記入日

2014/11/26


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