高性能パルスレーザーデポジション(PLD)成膜装置

資料番号 : 910591220002
所在等 東京工業大学すずかけ台キャンパス 科学技術創成研究院 フロンティア材料研究所
所在地 神奈川県横浜市緑区
製作(製造)年 1997
種類 その他(材料探索用装置)
製作者(社)等 株式会社アルバック(ULVAC)(東京工業大学 細野・神谷・平松研究室で個々のパーツをアップグレード)
調査機関団体 令和4年度鈴木主任調査員
特徴 このPLD成膜装置は、基板温度は結晶成長温度以上の高温域まで、チャンバー内の酸素分圧も広範な範囲で制御可能な仕様で、アモルファスから単結晶までの薄膜を創製できることから、Science誌とNature誌2報の卓越した論文の原点ツールである。今日、各企業で生産しているのはスパッタ装置だが、酸化物半導体の道を切り拓いたこの装置は産業史上極めて重要であり、将来に亘り記念&保存していくに相応しい産学界共通の貴重な資料である。
資料公開状況 公開
調査票記入日 2023/03/31
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