(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
ファインパターン・プロジェクション・マスク・アライナ FPA-141F |
資料番号 : 900790131002 |
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所在等 | キヤノン株式会社 |
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所在地 | 東京都大田区 |
製作(製造)年 | 1975 |
種類 | その他(カタログ) |
製作者(社)等 | キヤノン株式会社 |
調査機関団体 | 平成17年度高橋主任調査員調査分 |
特徴 | 半導体製造のフォトリソグラフィ工程で、原板(フォトマスク)のパターンをウエーハに1/4倍に縮小投影する装置。投影レンズの倍率を等倍ではなく縮小にすれば、原板(フォトマスク)のパターン線幅より細い線幅で露光できる原理を利用したもの。世界で初めて1ミクロン以下(サブミクロン)の露光を可能にした。 |
資料公開状況 | 非公開 |
調査票記入日 | 2005/06/29 |