(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
フォトマスクパタン欠陥検査装置仕様書(現:フォトマスク欠陥検査装置) 1MD2 |
資料番号 : 113611610008 |
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所在等 | レーザーテック株式会社 |
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所在地 | 神奈川県横浜市 |
製作(製造)年 | 1976 |
種類 | 設計図・文献 |
製作者(社)等 | レーザーテック株式会社 |
調査機関団体 | 日本半導体製造装置協会 |
特徴 | 1976年、世界初のフォトマスク欠陥検査装置「1MD2」を発売。当時ICやLSIを作るには10種類程度のフォトマスクを使用し、繰り返し露光を行う必要があった。フォトマスクの一部に欠陥があると、ICやLSIは不良品となり、歩留まりに影響を及ぼしたため、人が顕微鏡による過酷な目視検査を行っていた。自動化した本検査装置の開発により、半導体産業の発展に大きな貢献をした。 |
資料公開状況 | 非公開 |
調査票記入日 | 2014/10/10 |