(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
連続蒸着機によるNi-CrハイブリッドICの開発 |
資料番号 : 100210021365 |
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所在等 | 富士通株式会社 電子デバイス事業推進本部 |
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所在地 | 神奈川県川崎市 |
製作(製造)年 | 1970 |
種類 | 設計図・文献 |
製作者(社)等 | 白川 達夫(富士通東和エレクトロン株式会社 代表取締役社長) |
調査機関団体 | 社団法人 日本電子機械工業会 |
特徴 | (1)世界で初めてNi-Cr合金の抵抗体薄膜をIn-Line方式の連続蒸着機で量産に成功した薄膜ハイブリッドIC。・抵抗加熱の蒸着ではなく,電子銃を使用する薄膜形成法。・材料を切らすことなくフィード(供給)した。・金属マスクを使用していないため,化学処理が不要で安価な方式。(2)当時としては小型のICであったため,当社のメインコンピュータの各種端末機器を接続するインタフェースIC(ドライバ/レシーバ)を採用し,コンピュータの発展に寄与。 |
資料公開状況 | 非公開 |
調査票記入日 | 1998/08/20 |