(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
集束イオンビームで成形したX線マスク |
資料番号 : 103210361061 |
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所在等 | 独立行政法人 産業技術総合研究所 つくばセンター |
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所在地 | 茨城県つくば市 |
製作(製造)年 | 1987 |
種類 | 試作品 |
製作者(社)等 | |
調査機関団体 | 独立行政法人 産業技術総合研究所 |
特徴 | 等倍X線リソグラフィ用のマスクであり、当時としては最先端の200nm最小寸法のパターンを、電総研で開発した集束イオンビームで描写、ドライエッチ工程等を経て試作した。高精度加工が困難であった、薄膜上のWなどの吸収体パターン形成を、製膜法、条件の検討により、非晶質、低応力の製膜に成功し、かつ、集束イオンビームによる近接効果の無いリソグラフィプロセスを新たに開発し、先端X線マスクの試作に成功した。 |
資料公開状況 | 公開 |
調査票記入日 | 2002/10/21 |