集束イオンビームで成形したX線マスク

資料番号 : 103210361061
所在等 独立行政法人 産業技術総合研究所 つくばセンター 
所在地 茨城県つくば市
製作(製造)年 1987
種類 試作品
製作者(社)等
調査機関団体 独立行政法人 産業技術総合研究所
特徴 等倍X線リソグラフィ用のマスクであり、当時としては最先端の200nm最小寸法のパターンを、電総研で開発した集束イオンビームで描写、ドライエッチ工程等を経て試作した。高精度加工が困難であった、薄膜上のWなどの吸収体パターン形成を、製膜法、条件の検討により、非晶質、低応力の製膜に成功し、かつ、集束イオンビームによる近接効果の無いリソグラフィプロセスを新たに開発し、先端X線マスクの試作に成功した。
資料公開状況 公開
調査票記入日 2002/10/21
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