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フレキシブルマイクロスコープ NY-21S

資料番号 113111560024
情報所有館 国立科学博物館
所在等 マイクロネット株式会社
所在地 川口市
製作(製造)年 2000
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/24
種類 量産品
製作者(社)等 野村 勝
資料公開状況 公開
特徴 フレキシブル構造のマイクロスコープ。顕微鏡用対物レンズとCCDを組み合わせ、小型・計量ながらモニター上で10倍から300倍程度まで観察ができた。高感度のCCDを採用したため、外部照明を必要とせずに高倍率での観察を可能にした。

学校教育用実体顕微鏡 STC-1/STC-2/STC-3

資料番号 113111560025
情報所有館 国立科学博物館
所在等 メイジテクノ株式会社
所在地 入間郡三芳町
製作(製造)年 1978-2002
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/24
種類 量産品
製作者(社)等 メイジテクノ株式会社
資料公開状況 非公開
特徴 1978年に製造販売を開始した教育用実体顕微鏡。倍率を変えることの出来るスライド式対物レンズが特徴。解剖用としても使用された。ヨーロッパOEM販売を中心に数年間に渡り年間1万台を出荷した。

学校教育用顕微鏡 ATM-6/ATM-9

資料番号 113111560026
情報所有館 国立科学博物館
所在等 メイジテクノ株式会社
所在地 入間郡三芳町
製作(製造)年 1983-1990
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/24
種類 量産品
製作者(社)等 メイジテクノ株式会社
資料公開状況 非公開
特徴 1983年に製造販売を開始した教育用顕微鏡。中学・高校・大学での実習用として使用された。米国OEM先を中心に数年間に渡り年間1万台を出荷した。

学校教育用顕微鏡 STM-300/STM-400シリーズ

資料番号 113111560027
情報所有館 国立科学博物館
所在等 メイジテクノ株式会社
所在地 入間郡三芳町
製作(製造)年 1980-1995
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/24
種類 量産品
製作者(社)等 メイジテクノ株式会社
資料公開状況 非公開
特徴 1980年に製造販売を開始した教育用顕微鏡。欧米、アジア、アセアニア、日本国内で小中学校向けに販売実績あり。ベース部を回転させることにより傾斜をつけて観察が可能。総合倍率は40X~600X。ミラー付と照明付モデルがある。

JOICO顕微鏡

資料番号 113111560028
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1925
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 ドイツ人技術者アハトが設計した対物レンズを使用した当社初の本格的顕微鏡。製品名は日本光学工業の頭文字をとってブランド名とした。アハトの帰国後、当社技術陣は収差補正計算を継続し、対物レンズでは油浸式アクロマート90倍、NA1.25を完成し、接眼レンズでは新しくコンペンゼーション方式を設計した。

偏光顕微鏡 POH型

資料番号 113111560029
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1952
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 文部省から科学試験研究費の補助を受け、1949年から坪井誠太郎委員長(当時東京大学教授)を中心として偏光顕微鏡の設計試作のための研究会が組織され、日本光学の技術者も参画し、国産初の偏光顕微鏡の開発に成功した。

研究用顕微鏡 S型

資料番号 113111560030
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1956
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 従来の鏡筒上下動式顕微鏡に代わって鏡筒とアームを固定し、ステージを上下する合焦方式を採用したことにより安定した写真撮影を実現した国内初の顕微鏡。顕微鏡の各ユニットを標準化し、使用目的に合わせて組み合わせることができるビルディングブロックシステム方式を採用し、後に色々なアクセサリーを開発した。また、ケーラー照明装置を業界に先駆けて開発し、我が国におけるケーラー照明時代の端緒を開いた。

携帯顕微鏡 H型

資料番号 113111560031
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1958
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 大型顕微鏡に劣らない光学性能(機械的鏡筒長160mm)を持ちながら、35ミリカメラとほとんど同じ大きさで、革ケースに収めた携帯型顕微鏡(重さ800g)。手持ちのままで観察できるため野外観察・船上観察などで威力を発揮する。軽快な操作ができる倒立型で微動ハンドル焦点合わせ方式を採用。油浸操作用注油穴付、照明用電池内蔵。

干渉位相差顕微鏡

資料番号 113111560032
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1963
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 写真
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 万能型可変位相差顕微鏡を改良研究する過程で日本光学の上野正によって発明した。透明な標本の光路差(屈折率)を明暗のコントラスト(モノクローム)に変える位相差顕微鏡の特長に加えて、カラーのコントラストが自由に選べること、コントラストの強さを調整できること(位相差顕微鏡はコントラスト一定)が特長としてあげられる。

倒立顕微鏡 MD型

資料番号 113111560033
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1964
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 培養ビンの底に薄くはりついた生きた細胞を観察するための、本格的倒立位相差顕微鏡。東京大学医科学研究所勝田甫教授の指導を受けて開発し、組織培養研究に貢献した。ステージ固定で対物レンズを上下させる焦点機構でピントボケを抑えた。サイドポートの採用により、システム性が向上しタイムラプス映画撮影を可能にした。

万能顕微鏡アポフォト R型

資料番号 113111560034
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1967
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 対物レンズの開口数に合わせて光源像の大きさを変えるズームケーラー透過照明系を採用。反射照明、透過・反射同時照明を備え、さらに位相差、偏光、 微分干渉、蛍光などさまざまな装置によって観察が可能。各種写真や映画撮影もできる万能顕微鏡。顕微鏡では初めて工業デザイナーを採用し機能的かつユニークなデザインとなった。

研究用生物顕微鏡バイオフォト V型

資料番号 113111560035
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1976
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 アームユニット交換方式により、生物顕微鏡・金属顕微鏡・蛍光顕微鏡など各分野での専用機としての性能を持つ。光学系は世界初のCF(Chromatic Aberration Free)システムを採用。対物レンズで補正しきれない倍率色収差を接眼レンズで補正するというコンペンゼーション方式から脱却し、対物レンズ単体で倍率色収差まで補正した。これによって観察画像だけでなく、カメラ等のシステムの画像品質が向上した。

倒立顕微鏡ダイアフォト TMD

資料番号 113111560036
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1980
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 世界初のCF(Chromatic Aberration Free)光学系を採用した倒立顕微鏡。カメラポートを2か所に設けて、培養研究のためのシステム性を飛躍的に向上させた。倒立顕微鏡に本格的な蛍光装置を搭載し、生きた細胞のカルシウムイオン濃度の蛍光観察を可能にし研究の発展に貢献した。

レーザー共焦点顕微鏡 RCM8000

資料番号 113111560037
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1992
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 写真
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 三次元的な動態観察と生体内物質の定量化を可能にした落射蛍光コンフォーカル顕微鏡。 世界に先駆けてレゾナントミラーを採用。高速スポット走査を可能にし、33msec/1フレームを実現した。 同時に蛍光測光を利用して生体内物質の定量化を可能とするよう紫外線域対応の光学系を構築したことにより、カルシウムイオン濃度測定における定量性を持たせたリアルタイム画像の実験を可能にした。

研究用生物顕微鏡エクリプス E800

資料番号 113111560038
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1995
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/15
種類 量産品
製作者(社)等 株式会社ニコン
資料公開状況 非公開
特徴 無限遠補正光学系CFI60を採用。光学性能とシステム性を両立させるため、結像レンズ(第2対物レンズ)の焦点距離を200mm、対物レンズの同焦点距離を60mm、対物レンズネジ径を25mmとした。世界初の0.5X対物レンズやシステムの拡張性と高い光学性能を確保したモジュールの装着で、各種観察ニーズに幅広く対応した。

微分干渉顕微鏡(金属) S-R型

資料番号 113111560039
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1966
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 量産品
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 光学的原理は当社研究所山本忠昭主任研究員とパリ大学モーリス・フランソン教授の共同研究により発明考案された。偏光を利用したシャリングタイプの干渉顕微鏡(金属用)で、シャー(横ずらし)量を分解能の範囲内にとどめた特徴がある。ポラライザー、シャーする働きをするサバールプレート、アナライザーから成り、試料表面の微細構造(段差)の変化を明暗や色の差として検出でき鳥瞰図的に知ることができる。

ホールマイクロスコープ

資料番号 113111560040
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1970
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 写真
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 本機は、焦点深度を極端に深くした特殊対物レンズと特別な接眼部により、円筒状の小孔をスリバチ状にして、小孔全体の形状や内壁を観察、検査できるユニークな顕微鏡。プリント配線基板の小孔検査、ビス・ネジなどのネジ孔検査、噴射器などのノズルの検査、機械・電機・電子部品の小孔の形状検査などと応用範囲も広く、生産ラインなどで広く使われた。

サーフィスフニッシュマイクロスコープ

資料番号 113111560041
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1971
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 写真
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 光の干渉原理と照明法で表面粗さを光学的に測定する顕微鏡で、触針式の表面粗さ測定に比べて被検物を傷つける恐れがなく、測定精度も高いのものが得られた。多重干渉法、二光束干渉法、光切断法、金属顕微鏡の四つの機能を一台で果たす。測定範囲も200μm~5nmまでと広く、表面アラサの万能機と言え、非接触測定と相まって、機械加工面や研磨面などの表面粗さ測定分野で広く浸透した。

LSI検査顕微鏡オプチフォト 200/200D

資料番号 113111560042
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1994
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/18
種類 写真
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 超LSIの高集積化とウエハーサイズの大型化に対応したLSI検査顕微鏡。無限遠補正光学系CF&ICの採用、ニコン独自のピンホール照明、CAE構造解析による高剛性ボディで、高解像力化・高焦点深度化と操作性を飛躍的に向上させた。クォーターミクロン・ルールLSIの検査を可能にし、16M/64MDRAMから256MDRAMまで対応している。

IC検査顕微鏡1型 オプチフォトー55

資料番号 113111560043
情報所有館 国立科学博物館
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 品川区
製作(製造)年 1979
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
調査票記入日 2014/07/15
種類 写真
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
資料公開状況 非公開
特徴 当社の初の半導体集積回路用フォトマスクやウエハーの外観検査顕微鏡。最大6インチフォトマスクの観察が可能。CF(Chromatic Aberration Free)光学系の採用と堅牢で大型のアームとスタンドの安定性の良い鏡基により、高解像力、ハイコントラストな観察画像を実現。目的により明視野・暗視野・偏光・微分干渉などさまさまな観察を可能としている。集積回路の生産性向上に貢献した。
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