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光学レンズ用の材料としてストリップ材（MAX巾200ｍｍ×厚30ｍｍ程度）を生産していたが、半導体製造装置等の大口径のレンズ等が求められるようになり、その材料として格段に大きなストリップ材が必要になった。これに対応するため、大物ストリップ（MAX巾800ｍｍ×厚150ｍｍ程度）の生産技術を確立した。
情報所有館 ： 国立科学博物館 
2000年当時、i線(波長365nm）、KrFエキシマレーザー(248nm)に加えてArFエキシマレーザー(193nm)を使った半導体露光装置の量産立ち上げの競争が激化し、さらに次々世代としてF2レーザー(157nm)露光装置が有望視されていたが、この装置に必要な光学材料、光学的評価方法については開発段階であった。そんな中で、オハラは157nm近傍波長で光学材料の屈折率を精密に測定できる技術を開発し、顧客の依頼に応えた。
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溶解技術やアニール処理技術の向上で屈折率内部均質性の良い光学硝子の生産技術が確立し、宇宙観測、半導体露光機、大型光学装置等の用途で国内外に広く販売してきた。その均質性測定は昭和40年代に自社製の干渉計でスタートし、研磨面測定や研削面で測定するオイルオンﾌﾟﾚｰﾄ法を導入して技術確立を図り、更に1989年には均質性測定では最大径の18ｲﾝﾁZYGO社干渉計システムを設置して現在も国内唯一の装置として稼働中。
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チェレンコフガラスは宇宙線の研究に用いられ、電子などの荷電粒子及びガンマ線のチェレンコフ光を精度良く測定する測定装置に使用される。1961年に初めて生産し、1990年頃まで継続され、世界の研究機関から高い評価を受けた。この超精密ガラスは、透明性に優れ、高均質、鉛含有量が適量であることなど条件は非常にきびしいものである。製品形状は最大で150㎜×150㎜×1000㎜。
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RT2は外観は黒色で可視光線を遮断し、赤外線のみ透過するガラスで、1.0μm～2.7μmの赤外線の透過率が良好です。暗視野装置の光源用フィルタ－、赤外線写真撮影用フィルタ－等に使用され、化学的耐久性が良好で、経年変化が無く、安定度が高いガラスです。
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低Tg光学ガラスは、一般的な光学ガラスよりもガラス転移点(Tg)が低いため、プレス温度低下が容易で、「研磨フリ－」・「リ－ドタイム短縮」が可能な精密ガラスモ－ルドのプリフォ－ムとして大変優れている。業界で最も早く取り組み、2000年に「低Tg光学ガラス」として5硝種のカタログを発行し現在では16硝種のラインアップを完成した。一般硝種と区別するため名称の前に「L-」を付した。Pb、Asは含有していない。
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PBH56は、可視域全体で高い透過性を有し、応力によって発生するガラスの複屈折を小さくするため、光弾性定数(β)がほぼゼロになるように組成設計された。ビームスプリッタ－などの複屈折の影響を受けやすい光学素子に用いると、赤(R)、緑(G)、青(B)の透過強度のほぼ等しい、熱等による応力の影響を受けにくい光学系が可能になる。
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S-YGH52は、屈折率ｎｄ1.78650/アッベ数νｄ50.0の高屈折率・超低分散ガラスで、酸化トリウムを含まない組成での量産品はオハラ以外には存在しない。1970年頃から光学ガラス製造各社はトリウムフリ－ガラスを開発していたが、高屈折率/低分散ガラス領域では安定したガラス取得が困難であった。その中でも特にS-YGH52は最も困難であったが、安定組成を開発して量産ガラスを製造販売した。
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光学ガラスの屈折率を精密に測定できる分光計(プリズムを通る光の屈折角度を測る)は、光学ガラスメーカーにとって最も大切な測定機です。このスイスSIP社製の分光計は大戦中に潜水艦でドイツから運ばれてきたという逸話があり、非常に信頼性が高いことから、戦時中の軍需用途から戦後の光学産業用途に供給された光学ガラスの屈折率を1970年代まで測定保証し、オハラの発展を支えてきました。
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光学ガラスの表面反射損失を含まない内部透過率の高精度測定の要求に応えるために、市販に無い分光光度計を1972年に自社開発。特徴は、ダブルモノクロメーターで、スペクル線の高い波長精度、光学楔(自社溶解の特殊ガラスで作製)を用いた光学的零位法の採用など。本装置は、2012年の次期開発装置導入まで稼働。半導体露光機や光学ﾌｧｲﾊﾞｰ用のガラスの内部透過率の品質保証を支えた。
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