■期間: | 2011年1月24日(月)~5月31日(火) |
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■時間: | 10:00~16:00 |
■休館日: | 土曜、日曜、祝日 |
■場所: | 国立科学博物館 産業技術史資料情報センター 展示ギャラリー (日本橋 三井本館 5階) |
■入場料: | 無料 |
当館では、わが国の科学技術(産業技術を含む。)の発展を示す貴重な科学技術史資料や、国民生活、経済、社会、文化の在り方に顕著な影響 を与えた科学技術史資料の保存と活用を図るための調査研究を産業界・学協会と協力して従来から行ってまいりました。
平成20年度に、重要科学技術史資料(愛称:未来技術遺産)の登録制度を発足させ、このたび第三回目の登録に併せてパネル展を開催いたします。また、登録した一部の資料についても展示を行います。
皆様のご来場をお待ちしております。
● 透過型電子顕微鏡 設計ノート |
● 2インチビデオテープ試作品 |
● 大阪万博の携帯電話 |
● 自動車電話 TZ803A |
● 駐車ブレーキ機構内蔵型コレット型ディスクブレーキ CL14H |
● アルカリセルラーゼ(同等品) 他 |