ファインパターン・プロジェクション・マスク・アライナ FPA-141F

資料番号 : 900790131002
所在等 キヤノン株式会社
所在地 東京都大田区
製作(製造)年 1975
種類 その他(カタログ)
製作者(社)等 キヤノン株式会社
調査機関団体 平成17年度高橋主任調査員調査分
特徴 半導体製造のフォトリソグラフィ工程で、原板(フォトマスク)のパターンをウエーハに1/4倍に縮小投影する装置。投影レンズの倍率を等倍ではなく縮小にすれば、原板(フォトマスク)のパターン線幅より細い線幅で露光できる原理を利用したもの。世界で初めて1ミクロン以下(サブミクロン)の露光を可能にした。
資料公開状況 非公開
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