(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
シリコンエピタキシャル単結晶成長装置 DC-5200 |
資料番号 : 113611610038 |
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所在等 | 株式会社 日立国際電気 電子機械事業部 富山工場 |
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所在地 | 富山県富山市 |
製作(製造)年 | 1971 |
種類 | 量産品 |
製作者(社)等 | 国際電気株式会社(現 株式会社 日立国際 電気) |
調査機関団体 | 日本半導体製造装置協会 |
特徴 | DC-5200エピタキシャル装置は技術の革新、変化に顕著な役割を果たした装置である。従来のように石英ベルジャーを設置する構造から水冷式外部ステンレスベルジャーに密着出来る構造とし当時の技術課題であった膜厚均一性、抵抗率均一性、結晶欠陥の制御他を解決し、量産装置として全ての材料ガスに対応可能とし安全性、信頼性をも両立した装置であり、昭和59年に第26回科学技術長官賞(功労賞)を受賞した。 |
資料公開状況 | 公開 |
調査票記入日 | 2014/10/07 |