ウエハー周辺露光装置

資料番号 : 113611610027
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1989
種類 写真
製作者(社)等 ウシオ電機株式会社
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
特徴 1980年代中ごろ、生産性の向上が重要課題となっていた4M、16Mビットの半導体製造ラインでは、パーティクルとなるレジスト飛散が大きな問題となる。本装置は、ウエハー周辺部の不要なレジストを紫外線によって除去し、不良品の低減、工程のクリーン化に寄与した。
資料公開状況 公開
調査票記入日 2014/10/31
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