(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
ウエハー周辺露光装置 |
資料番号 : 113611610027 |
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所在等 | ウシオ電機株式会社 |
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所在地 | 東京都千代田区 |
製作(製造)年 | 1989 |
種類 | 写真 |
製作者(社)等 | ウシオ電機株式会社 |
調査機関団体 | 日本半導体製造装置協会 |
特徴 | 1980年代中ごろ、生産性の向上が重要課題となっていた4M、16Mビットの半導体製造ラインでは、パーティクルとなるレジスト飛散が大きな問題となる。本装置は、ウエハー周辺部の不要なレジストを紫外線によって除去し、不良品の低減、工程のクリーン化に寄与した。 |
資料公開状況 | 公開 |
調査票記入日 | 2014/10/31 |