フォトマスクパタン欠陥検査装置仕様書(現:フォトマスク欠陥検査装置) 1MD2

資料番号 : 113611610008
所在等 レーザーテック株式会社
所在地 神奈川県横浜市
製作(製造)年 1976
種類 設計図・文献
製作者(社)等 レーザーテック株式会社
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
特徴 1976年、世界初のフォトマスク欠陥検査装置「1MD2」を発売。当時ICやLSIを作るには10種類程度のフォトマスクを使用し、繰り返し露光を行う必要があった。フォトマスクの一部に欠陥があると、ICやLSIは不良品となり、歩留まりに影響を及ぼしたため、人が顕微鏡による過酷な目視検査を行っていた。自動化した本検査装置の開発により、半導体産業の発展に大きな貢献をした。
資料公開状況 非公開
本データベース記載の画像及びテキストの複製・転載を禁じます

検索結果一覧へ戻る