(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
IC検査顕微鏡1型 オプチフォトー55 |
資料番号 : 113111560043 |
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所在等 | 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 |
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所在地 | 東京都品川区 |
製作(製造)年 | 1979 |
種類 | 写真 |
製作者(社)等 | 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン) |
調査機関団体 | 日本顕微鏡工業会 |
特徴 | 当社の初の半導体集積回路用フォトマスクやウエハーの外観検査顕微鏡。最大6インチフォトマスクの観察が可能。CF(Chromatic Aberration Free)光学系の採用と堅牢で大型のアームとスタンドの安定性の良い鏡基により、高解像力、ハイコントラストな観察画像を実現。目的により明視野・暗視野・偏光・微分干渉などさまさまな観察を可能としている。集積回路の生産性向上に貢献した。 |
資料公開状況 | 非公開 |
調査票記入日 | 2014/07/15 |