IC検査顕微鏡1型 オプチフォトー55

資料番号 : 113111560043
所在等 株式会社 ニコン 100周年プロジェクト室 
所在地 東京都品川区
製作(製造)年 1979
種類 写真
製作者(社)等 日本光学工業株式会社(現 株式会社ニコン)
調査機関団体 日本顕微鏡工業会
特徴 当社の初の半導体集積回路用フォトマスクやウエハーの外観検査顕微鏡。最大6インチフォトマスクの観察が可能。CF(Chromatic Aberration Free)光学系の採用と堅牢で大型のアームとスタンドの安定性の良い鏡基により、高解像力、ハイコントラストな観察画像を実現。目的により明視野・暗視野・偏光・微分干渉などさまさまな観察を可能としている。集積回路の生産性向上に貢献した。
資料公開状況 非公開
調査票記入日 2014/07/15
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