検索結果 : 44

前の10件 (21-30/44)    次の10件

IC焼付け装置「ユニマスク101」

資料番号 113611610021
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1968
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

LSI焼付け用ディープUVランプ

資料番号 113611610022
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1976
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

超LSI焼付け用大出力ディープUVランプ

資料番号 113611610023
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1977
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

シリコンエピタキシャル結晶膜成長用ハロゲンヒータランプ「HHシリーズ」

資料番号 113611610024
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1982
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

光洗浄装置「フォトレックス」

資料番号 113611610025
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1983
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

紫外線レジスト硬化装置「ユニハード」 H-3

資料番号 113611610026
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1985
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

ウエハー周辺露光装置

資料番号 113611610027
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1989
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

半導体露光用SUVランプ

資料番号 113611610028
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1991
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

ケミカルドライエッチング(CDE)装置(Chemical Dry Etching System) CDE-Ⅳ

資料番号 113611610029
所在等 芝浦メカトロニクス株式会社
所在地 神奈川県横浜市
製作(製造)年 1977
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

日立高分解能FEB測長装置の1/8レプリカ模型 S-6000/S-8820/S-9380

資料番号 113611610030
所在等 株式会社 日立ハイテクノロジーズ
所在地 茨城県ひたちなか市
製作(製造)年 1984-2009
調査機関団体 日本半導体製造装置協会

前の10件 (21-30/44)    次の10件