(データは調査時のものです。最新の状況とは一致しない場合があります。)
IC焼付け装置「ユニマスク101」 |
資料番号 : 113611610021 |
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所在等 | ウシオ電機株式会社 |
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所在地 | 東京都千代田区 |
製作(製造)年 | 1968 |
種類 | 写真 |
製作者(社)等 | ウシオ電機株式会社 |
調査機関団体 | 日本半導体製造装置協会 |
特徴 | 世界初の投影方式の露光装置。フォトマスクの図形を投影レンズを使ってウエハー上に等倍で投影し、一括して焼付ける。当時のウエハーサイズは1~1.5inch、フォトマスクの最小線幅は5~10μm。これに対して、本装置の解像力はφ30~φ40mmイメージフィールドで5~8μm以内。焦点深度は±40μm、位置合わせ精度は±3μm、露光時間は20~30秒であった。 |
資料公開状況 | 公開 |
調査票記入日 | 2014/10/31 |