IC焼付け装置「ユニマスク101」

資料番号 : 113611610021
所在等 ウシオ電機株式会社
所在地 東京都千代田区
製作(製造)年 1968
種類 写真
製作者(社)等 ウシオ電機株式会社
調査機関団体 日本半導体製造装置協会
特徴 世界初の投影方式の露光装置。フォトマスクの図形を投影レンズを使ってウエハー上に等倍で投影し、一括して焼付ける。当時のウエハーサイズは1~1.5inch、フォトマスクの最小線幅は5~10μm。これに対して、本装置の解像力はφ30~φ40mmイメージフィールドで5~8μm以内。焦点深度は±40μm、位置合わせ精度は±3μm、露光時間は20~30秒であった。
資料公開状況 公開
調査票記入日 2014/10/31
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